金屬蝕刻劑

編 號產品名稱適 用 製 程建議適用產業
CuR-8000銅蝕刻劑是一種高性能磷酸基銅蝕刻劑。封裝/半導體/主動元件/被動元件/TFT/TP
TiR-2051B鈦蝕刻劑是一種磷酸基鈦蝕刻劑。可用於噴塗或浸塗工藝。對Cu、Al、Ni、Au無損傷。封裝/半導體/主動元件/被動元件/TFT/TP
WTE-5713D鈦鎢蝕刻劑封裝/半導體/主動元件/被動元件/TFT/TP
WTE-7013/5015鈦鎢蝕刻劑是一種強效的氧化劑,PH介於5~6.5間。封裝/半導體/主動元件/被動元件/TFT/TP
AuE-9802剝金劑對底材為鐵、鎳之合金不會攻擊,其蝕刻速率可達20 uin/min。金含量可到2-4g/l。封裝/半導體/主動元件/被動元件/TFT/TP
SnE-1000錫蝕刻劑單液型之Sn/pb剝除劑,不含氟化物,不會攻擊玻璃纖維,對銅之蝕刻率低,無沉澱物產生。PCB
SnE-4300金屬蝕刻劑單液型之剝除劑,不含氟化物,不會攻擊玻璃纖維,對銅之蝕刻率低,無沉澱物產生。PCB
NiE-7520鎳剝除劑針對鍍層為純鎳或化鎳之剝除,為單液型剝除劑,可應用於噴灑浸泡所開發出來。不含氟化物,較不易傷設備,其本身有添加護銅劑,對於底材為銅面者攻擊性較少。PCB
CrE-1015鉻鎳蝕刻液封裝/半導體